光伏鈣鈦礦電池行業(yè)如何選擇激光刻蝕
鈣鈦礦電池目前分為玻璃基底和柔性PET柔性基底兩種類型,激光刻蝕、劃線、清洗設(shè)備主要應(yīng)用在p1、p2、p3激光劃線以及p4激光清邊。
激光刻蝕機在鈣鈦礦電池中的主要用途為p1p2p3劃線,其目的是為了分割電池區(qū)域,形成串聯(lián)電池,增大電壓,其中需要特別注意的是控制激光劃線的線寬,從而減少死區(qū)面積,增大電池有效使用面積,并在對下一層激光刻蝕的同時保證不傷及上一層級,這是由于通過激光劃線方式使P1和P3層串聯(lián)起來,如果在做P2層激光劃線過程中傷及P1層會影響其導電性及光電轉(zhuǎn)換效率。P1層通常為透明導電氧化物如氧化鎳、ITO、FTO等材料,P2層為鈣鈦礦層,P3層通常為金屬電極,如金、銀、鋁、銅等材料,詳細的劃分一般為FTO導電玻璃、TiO2 致密層、TiO2 介孔層、鈣鈦礦層、HTM層、金屬電極。P4激光清邊的意義是在制作鈣鈦礦電池過程中印刷或生長方式涂布的各個層級存在誤差,尤其在邊緣區(qū)域的控制難以把控,需要利用激光刻蝕技術(shù),在邊緣清理出1-10mm的區(qū)域,保證電池各個層級的一致性。
目前適用于鈣鈦礦電池激光劃線的激光刻蝕設(shè)備波段分布廣泛,而根據(jù)不同材料的特性脈沖寬度也有較大差異性,某些實驗室單位從成本角度考慮采用納秒紅外或納秒綠光波段制作工藝,而一些實驗性商業(yè)用途則采用超快激光刻蝕機,如飛秒紅外激光或飛秒綠光激光刻蝕機等,不一而同,具體的工藝模式,仍需以工藝試樣和預算為準。
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